Главная › Технологии › High-NA EUV
High-NA EUV
Технологии
Литография
The ~$380M next step: bigger optics, finer features, halved field size.
Перед вами запись о технологии — базовом элементе AI-железа: что она делает, кто её производит и в каких чипах и системах используется.
High-numerical-aperture EUV (0.55 NA) resolves ~8 nm features in one exposure. Intel took the first production tools for its 14A roadmap; TSMC adopts more cautiously. Each system ships in multiple aircraft and costs around $380M — the most complex machine ever sold.
Место в общей экосистеме
Ссылки этой записи с первого взгляда — нажмите на группу, чтобы перейти к ней.
Поддерживается
Преемник
Связанные
Источники
Запись актуальна на 2026-01-15 — смотреть Методология.