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Início › Tecnologias › High-NA EUV

High-NA EUV

Tecnologia Litografia

The ~$380M next step: bigger optics, finer features, halved field size.

Está a ver um registo de tecnologia: um componente fundamental do hardware de IA — o que faz, quem o produz, e que chips e sistemas o utilizam.

High-numerical-aperture EUV (0.55 NA) resolves ~8 nm features in one exposure. Intel took the first production tools for its 14A roadmap; TSMC adopts more cautiously. Each system ships in multiple aircraft and costs around $380M — the most complex machine ever sold.

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Fontes

ASML High-NA ↗

Registro revisado em 2026-01-15 — ver Metodologia.