Home › Technologieën › High-NA EUV
High-NA EUV
Technologie
Lithografie
The ~$380M next step: bigger optics, finer features, halved field size.
U bekijkt een technologierecord: een bouwsteen van AI-hardware — wat het doet, wie het maakt, en welke chips en systemen er gebruik van maken.
High-numerical-aperture EUV (0.55 NA) resolves ~8 nm features in one exposure. Intel took the first production tools for its 14A roadmap; TSMC adopts more cautiously. Each system ships in multiple aircraft and costs around $380M — the most complex machine ever sold.
Hoe dit aansluit op de rest van de stack
De koppelingen van dit record in één oogopslag — klik op een groep om er naartoe te springen.
Onderhouden door
Opvolger van
Gerelateerd
Bronnen
Record beoordeeld per 2026-01-15 — bekijk Methodologie.