High-NA EUV
Teknologi
Litografi
The ~$380M next step: bigger optics, finer features, halved field size.
Anda sedang melihat entri teknologi: sebuah komponen dasar perangkat keras AI — apa fungsinya, siapa yang membuatnya, dan chip serta sistem mana yang menggunakannya.
High-numerical-aperture EUV (0.55 NA) resolves ~8 nm features in one exposure. Intel took the first production tools for its 14A roadmap; TSMC adopts more cautiously. Each system ships in multiple aircraft and costs around $380M — the most complex machine ever sold.
Bagaimana ini terhubung ke bagian lain dari stack
Tautan catatan ini sekilas — klik grup untuk langsung menuju ke sana.
Dipelihara oleh
Penerus dari
Terkait
Sumber
Rekaman ditinjau per 2026-01-15 — lihat Metodologi.