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High-NA EUV

Tecnología Litografía

The ~$380M next step: bigger optics, finer features, halved field size.

Estás viendo un registro de tecnología: un bloque fundamental del hardware de IA, qué hace, quién la fabrica y qué chips y sistemas la utilizan.

High-numerical-aperture EUV (0.55 NA) resolves ~8 nm features in one exposure. Intel took the first production tools for its 14A roadmap; TSMC adopts more cautiously. Each system ships in multiple aircraft and costs around $380M — the most complex machine ever sold.

Cómo se conecta con el resto del stack

Los enlaces de esta ficha de un vistazo: haz clic en un grupo para ir directamente a él.

Mantenido por

ASML

Sucesor de

EUV Lithography

Relacionado

Intel 18A

Fuentes

ASML High-NA ↗

Registro revisado a fecha de 2026-01-15 — ver Metodología.