Главная › Технологии › EUV Lithography
EUV Lithography
Технологии
Литография
13.5-nanometer light from exploding tin droplets — the machine behind every leading-edge chip.
Перед вами запись о технологии — базовом элементе AI-железа: что она делает, кто её производит и в каких чипах и системах используется.
Extreme-ultraviolet lithography fires lasers at tin droplets 50,000 times a second to make plasma that emits 13.5 nm light, steered by the flattest mirrors ever manufactured. Only ASML builds these ~$180M machines; every chip on this site below 7 nm depends on them, and their export to China is banned — making one Dutch factory the choke point of the entire AI supply chain.
Место в общей экосистеме
Ссылки этой записи с первого взгляда — нажмите на группу, чтобы перейти к ней.
Поддерживается
Заменён на
Связанные
Источники
Запись актуальна на 2026-01-15 — смотреть Методология.