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ホーム › 技術 › EUV Lithography

EUV Lithography

情報技術 リソグラフィ

13.5-nanometer light from exploding tin droplets — the machine behind every leading-edge chip.

これはテクノロジーのレコードです。AIハードウェアの構成要素について、機能・製造元・採用しているチップおよびシステムを紹介します。

Extreme-ultraviolet lithography fires lasers at tin droplets 50,000 times a second to make plasma that emits 13.5 nm light, steered by the flattest mirrors ever manufactured. Only ASML builds these ~$180M machines; every chip on this site below 7 nm depends on them, and their export to China is banned — making one Dutch factory the choke point of the entire AI supply chain.

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出典

ASML EUV ↗

レコードのレビュー時点: 2026-01-15 — 表示 調査手法.