EUV Lithography
13.5-nanometer light from exploding tin droplets — the machine behind every leading-edge chip.
Vous consultez une fiche technologie : un composant fondamental du matériel IA — ce qu'il fait, qui le fabrique, et quels chips et systèmes l'utilisent.
Extreme-ultraviolet lithography fires lasers at tin droplets 50,000 times a second to make plasma that emits 13.5 nm light, steered by the flattest mirrors ever manufactured. Only ASML builds these ~$180M machines; every chip on this site below 7 nm depends on them, and their export to China is banned — making one Dutch factory the choke point of the entire AI supply chain.
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Fiche examinée au 2026-01-15 — voir Méthodologie.