EUV Lithography
13.5-nanometer light from exploding tin droplets — the machine behind every leading-edge chip.
Sie sehen einen Technologie-Eintrag: einen Baustein von KI-Hardware — was er leistet, wer ihn herstellt, und welche Chips und Systeme ihn nutzen.
Extreme-ultraviolet lithography fires lasers at tin droplets 50,000 times a second to make plasma that emits 13.5 nm light, steered by the flattest mirrors ever manufactured. Only ASML builds these ~$180M machines; every chip on this site below 7 nm depends on them, and their export to China is banned — making one Dutch factory the choke point of the entire AI supply chain.
So hängt das mit dem Rest des Stacks zusammen
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Quellen
Datensatz geprüft am 2026-01-15 — Siehe Methodik.